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CIF Flash-Evac系列閃蒸成膜儀基于“快速溶劑揮發誘導成膜”原理研發生產的薄膜制備設備，通過真空環境加速溶劑蒸發，驅動溶質（如有機小分子、聚合物、金屬鹵化物等）快速自組裝形成均勻納米薄膜。設備具備智能控制、高效成膜與廣泛兼容等優勢，廣泛應用于鈣鈦礦太陽能電池、OLED、柔性電子與傳感等前沿領域。
核心特點
u 智能集成控制：7英寸彩色觸控屏，支持中英文界面，實時監測與調節工藝參數，可存儲20組配方，工藝全程可追溯。
u 雙模式靈活操作：集成PLC控制系統，支持手動/自動一鍵切換，適應多樣研發與量產場景。
u 高質量成膜性能：真空環境促進快速溶劑揮發與溶質有序排列，形成致密均勻、低缺陷的高質量薄膜。
u 精準氣體與環境控制：內置質量流量計（0–500 sccm），支持惰性氣體保護與HEPA過濾，有效防污，滿足高標準潔凈工藝需求。
u 廣泛兼容與高擴展性：支持多種基底（硅片/玻璃/ITO等）和功能層（電子/空穴傳輸層等）沉積，優化器件性能與穩定性。可選集成加熱臺（RT–200°C）。
u 工藝均勻性：精準調控溫度、真空度與揮發速率，實現大面積均勻成膜，解決多層器件互溶問題。
u 穩定可靠運行：設備結構穩固，可長時間連續工作，保障工藝一致性與重復性。
2024-07-26 
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